半导体制造各环节对真空泵的 “洁净度、真空度、耐腐蚀性” 要求迥异，思贝乐ZHS系列凭借无油设计与灵活性能，实现全场景覆盖：

1. 光刻环节：护航 “芯片绘图” 的超高洁净与稳定。

光刻作为半导体制造的 “核心工序”，需10⁻⁶~10⁻⁹ Pa 的超高真空与极致洁净环境，避免空气分子散射光线、油蒸气污染光刻胶或光学镜片。ZHS系列采用无油干式结构，从源头杜绝油蒸气污染，完美适配 EUV/DUV 光刻对洁净度的严苛要求；同时其超低噪音（≤65dB）设计，可减少设备振动对光刻光路的干扰，保障电路图案精度。搭配AI智能系统实时监测真空度，确保光刻过程真空环境稳定，避免因真空波动导致的良率损耗。

2. 刻蚀与薄膜沉积：耐腐与高效的双重保障

刻蚀环节需通入氟化物、氯化物等腐蚀性气体，CVD/PVD 沉积则需避免杂质影响膜层质量，二者均对真空泵 “耐腐蚀性、无油污染” 提出高要求。ZHS系列采用哈氏合金腔体与陶瓷涂层，耐受强腐蚀性尾气，解决传统真空泵易生锈、寿命短的问题；无油设计杜绝油蒸气与刻蚀气体反应生成杂质，保障硅片表面洁净度。同时，其高抽速特性可快速排出反应尾气，提升刻蚀与沉积的生产效率，适配12英寸及更大尺寸硅片的工艺需求。

3. 封装测试：低成本与高响应的平衡

半导体封装（如 MEMS 真空封装）需中真空环境，测试环节的真空吸拾则要求快速响应。

ZHS系列无需复杂前级泵配合，可直接实现中低真空（10⁻¹~10³ Pa），满足封装与吸拾需求；其紧凑结构与低能耗设计，适配封装测试线的自动化布局，减少设备占用空间与能源消耗。

半导体行业属于高能耗领域，真空泵作为连续运行设备，能耗成本占比显著。思贝乐ZHS 系列以 “超低能耗” 为核心竞争力，为企业带来切实的成本优化：

1. 能耗减半：远超行业平均水平的节能表现

相较于传统油式真空泵或普通干泵，ZHS系列通过优化螺杆/涡旋结构、采用高效电机与变频控制技术，实现平均省电50%的突破。以一条12英寸晶圆生产线为例，若配备20台ZHS 真空泵，按单台日均耗电100度、工业电价1.2元/度计算，每年可节省电费：20台×100度×50%×365天×1.2元 =43.8万元，大幅降低生产能耗成本。

2. 1年回报：短周期实现投资价值

节能带来的成本节省，结合ZHS系列的高稳定性（连续运行寿命超3万小时，减少维护停机损失），可实现1年投资回报周期。这一优势在半导体行业“高投入、长周期”的背景下，显著提升企业资金利用率与市场竞争力。

思贝乐ZHS系列并非仅聚焦 “节能”，更通过 AI智能化功能为半导体生产赋能：

实时监测与预警：集成真空度、温度、能耗等传感器，AI系统实时分析设备状态，提前预警故障风险（如腔体腐蚀、电机异常），避免突发停机导致的生产线中断；

自适应调节：根据不同工艺环节（如光刻、刻蚀）的真空需求，AI 自动调节抽速与能耗，在保障工艺精度的同时，最大化节能效果；

远程运维：支持云端数据管理，工程师可远程监控设备运行、排查问题，减少现场维护成本与时间。

在半导体工艺向3nm及以下、硅片向18英寸升级的趋势下，对真空泵的“洁净度、节能性、智能化”要求持续提升。思贝乐ZHS无油节能真空泵，不仅以技术优势满足行业工艺需求，更以平均省电“50%、1年回报”的核心价值，帮助企业降本增效，实现从“单纯设备供给”到“深度价值共创”的角色转变，成为半导体制造环节的关键合作伙伴。

企业愿景:成为一家生产真空泵鼓风机液体泵的民族上市公司！

企业使命:为用户真空泵+鼓风机+液体泵设备提供

前沿节能技术解决方案！

价值观:学习、和谐、坚持、专业、团结、互信、共赢、发展。

企业文化:让诚实有理想的人才不受委屈持续发展